白光干涉仪AE-100M

产品用途：

     结合光学显微镜与白光干涉仪功能的扫描式白光干涉显微镜，结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序，兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点，可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量，适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸。应用领域包含：玻璃镜片、镀膜表面、晶圆、光碟/影碟、精密微机电元件、平面液晶显示器、高密度线路印刷电路板、IC封装、材料分析与微表面研究等。

产品特点：

● 纳米深度3D
● 高速、无接触量
● 表面形状、粗糙度分析
● 非透明、透明材质皆适用
● 非电子束、非雷射的安全量测
● 低维护成本

级的3D图形处理与分析软体（Post Topo）

●  提供多功能又具友好界面的3D图形处理与分析
●  提供自动表面平整化处理功能
●  提供高阶标准片的软件自校功能
●  深度、高度分析功能提供线型分析与区域分析等两种方式
●  线型分析方式提供直接追溯ISO定义的表面粗糙度（Rorghness）与起伏度
●  （waviness）的测量分析。可提供多达17种的ISO量测参数与4种额外量测数据（Wafer）
●  区域分析方式提供图形分析与统计分析
●  具有平滑化、锐化与数字过滤波等多种二维快速利叶转换（FFT）处理功能
●  量测分析结果以BMP